2024FY

FY2024

論文

1. Akihiro Katsura, Maki Tsurumoto, Aiji Suetake, Yukiko Hirose, Daniele Micucci, Tohru Sugahara, “Interface Optimization for Low-Contact Resistance between Bismuth Telluride and Barrier Metals in Thermoelectric Generation Devices” AIP Advances 15, 035351 (2025). https://doi.org/10.1063/5.0253218
2. Yukari Katsura, Masakazu Akiyama, Haruhiko Morito, Masaya Fujioka and Tohru Sugahara, “Systematic searches for new inorganic materials assisted by materials informatics” Science and Technology of Advanced Materials, 2025, VOL. 26, NO. 1, 2428154 (2025).
3. Yuki Inada, Masaya Fujioka, Haruhiko Morito, Tohru Sugahara, Hisanori Yamane, Yukari Katsura, “Elemental Reactivity Maps for Materials Discovery”, Chem. Mater. 2025, 37, 6, 2097–2105. https://doi.org/10.1021/acs.chemmater.4c02259.
4. Akihiro Katsura, Maki Tsurumoto, Aiji Suetake, Yukiko Hirose, Daniele Micucci, Stefania Specchia, Tohru Sugahara*
   “Influence of Semiconductor Thickness for the Contact Resistance Measurement with Transfer Length Method at the Interface between Bismuth Telluride Thermoelectric Materials and Metals” Thin Solid Films 819, 1, 2025, 140668(2025). https://doi.org/10.1016/j.tsf.2025.140668

国内学会

1. 桂 章皓, 鶴元 真妃, 廣瀬 由紀子, Daniele Micucci, 佐藤 峻, 岩瀬 英治, 菅原 徹, “拡張伝送線モデル(TLM)法を用いた熱電半導体/金属界面の固有接触抵抗率の精密測定と界面の信頼性評価”, 応用物理学会 秋季学術講演会, 2024年9月（新潟）
2. 桂 章皓, 鶴元 真妃, 廣瀬 由紀子, 佐藤 峻, 岩瀬 英治, 菅原 徹, “拡張伝送線モデル(TLM)法を用いた熱電半導体の接触抵抗の精密測定”, 応用物理学会 春季学術講演会, 2024年3月（東京）
3. 桂 章皓, 鶴元 真妃, 廣瀬 由紀子, Daniele Micucci, 佐藤 峻, 岩瀬 英治, 菅原 徹, “半導体デバイス開発に向けた拡張TLM法による接触抵抗の精密測定”, エレクトロニクス実装学会 マイクロエレクトロニクスシンポジウム, 2024年9月（名古屋）

国際学会

1. A. Katsura, M. Tsurumoto, Y. Hirose, D. Micucci, T. Sato, E. Iwase, T. Sugahara, “Advanced Transfer Length Method for Refined Measurement of Specific Contact Resistivity at the Interface between Bismuth Telluride Thermoelectric Semiconductor and Metals”, The 38th International Japan-Korea Seminar on Ceramics, 2SA-13, October 2024, Fukuoka.